首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

未来半导体器件及集成电路中纳米线的制作
作者姓名:罗家强 程开富
摘    要:介绍了线宽小于10nm的多晶硅缝隙纳米线的制作技术,缝纳线技术适用于制作量子器件,光电器件和集成电路。

关 键 词:缝隙纳米线 制作 集成电路
本文献已被 维普 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号