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0.8—1微米分步重复投影光刻机研制

引用本文：	吴耀才,陈旭南.0.8—1微米分步重复投影光刻机研制[J].LSI制造与测试,1996,17(6):7-11.

作者姓名：	吴耀才陈旭南

摘要：
关键词：	光刻机投影微米光电技术
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