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有机玻璃衬底磁控溅射ITO膜的制备与性能研究
引用本文:张运生,杨幼然,王永斌,马晓娜,冯海兵.有机玻璃衬底磁控溅射ITO膜的制备与性能研究[J].半导体光电,2014,35(1):69-72,117.
作者姓名:张运生  杨幼然  王永斌  马晓娜  冯海兵
作者单位:中国建筑材料科学研究总院, 北京 100024;中国建筑材料科学研究总院, 北京 100024;中国建筑材料科学研究总院, 北京 100024;中国建筑材料科学研究总院, 北京 100024;中国建筑材料科学研究总院, 北京 100024
摘    要:在低温条件下采用直流磁控溅射法在有机玻璃(PMMA)衬底上制备了ITO薄膜。分别采用分光光度计、四探针测试仪研究了底涂层、衬底温度、氧流量、溅射时间对PMMA上沉积的ITO薄膜性能的影响。研究结果表明:涂覆底涂层有助于ITO成膜;衬底温度影响薄膜的方块电阻值;适当增大O2流量可以提高薄膜的透射率,但过高的O2流量降低薄膜的导电性;溅射时间延长,方块电阻值减小。优化工艺后制备的ITO薄膜为非晶态膜,可见光平均透过率达83.5%,方块电阻为22Ω/□。

关 键 词:ITO薄膜  有机玻璃  磁控溅射  透光率  方块电阻
收稿时间:7/1/2013 12:00:00 AM

Preparation and Properties of ITO Films Deposited on PMMA Substrate by Magnetron Sputtering
Abstract:
Keywords:ITO films    PMMA    magnetron sputtering    transmittance    square resistance
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