有机玻璃衬底磁控溅射ITO膜的制备与性能研究 |
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引用本文: | 张运生,杨幼然,王永斌,马晓娜,冯海兵. 有机玻璃衬底磁控溅射ITO膜的制备与性能研究[J]. 半导体光电, 2014, 35(1): 69-72,117 |
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作者姓名: | 张运生 杨幼然 王永斌 马晓娜 冯海兵 |
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作者单位: | 中国建筑材料科学研究总院, 北京 100024;中国建筑材料科学研究总院, 北京 100024;中国建筑材料科学研究总院, 北京 100024;中国建筑材料科学研究总院, 北京 100024;中国建筑材料科学研究总院, 北京 100024 |
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摘 要: | 在低温条件下采用直流磁控溅射法在有机玻璃(PMMA)衬底上制备了ITO薄膜。分别采用分光光度计、四探针测试仪研究了底涂层、衬底温度、氧流量、溅射时间对PMMA上沉积的ITO薄膜性能的影响。研究结果表明:涂覆底涂层有助于ITO成膜;衬底温度影响薄膜的方块电阻值;适当增大O2流量可以提高薄膜的透射率,但过高的O2流量降低薄膜的导电性;溅射时间延长,方块电阻值减小。优化工艺后制备的ITO薄膜为非晶态膜,可见光平均透过率达83.5%,方块电阻为22Ω/□。
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关 键 词: | ITO薄膜 有机玻璃 磁控溅射 透光率 方块电阻 |
收稿时间: | 2013-07-01 |
Preparation and Properties of ITO Films Deposited on PMMA Substrate by Magnetron Sputtering |
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Abstract: | |
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Keywords: | ITO films PMMA magnetron sputtering transmittance square resistance |
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