| 高密度磁记录用部分晶化钡铁氧体薄膜 |
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| 引用本文： | 白建民,刘小晰,谢天,魏福林,杨正,松本光功.高密度磁记录用部分晶化钡铁氧体薄膜[J].磁性材料及器件,1999,30(1):23-27. |
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| 作者姓名： | 白建民 刘小晰 谢天 魏福林 杨正 松本光功 |
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| 作者单位： | 1. 兰州大学磁性材料研究所,兰州730000
2. 日本国信州大学工学部工学科,日本国长野市若里500,380 |
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| 摘 要： | 对于沉积态非晶薄膜，通过严格控制其块速热处理时间，从而制备出了部分晶化钡铁本薄膜，和学显微镜（ＡＦＭ）观察表明，与完全晶化的薄膜相比，部分晶化的薄膜具有更光滑的表面，振动样品磁强计（ＶＳＭ）的测量结果表明，这种薄膜具有非常低的△Ｍ值，这主要是由于磁性粒子之间存在非磁性相，使和磁性粒子之间的磁耦合减小的缘故。
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| 关 键 词： | 钡铁氧体薄膜 溅射镀膜 ΔΜ值 部分晶化 |
| 修稿时间： | 1998-09-21 |
Partially Crystallized Ba-Ferrite Thin Films for High Density Magnetic Recording |
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| Bai Jianmin,Liu Xiaoxi,Xie Tian,Wei Fulin,Yang Zheng,Mitsunori Matsumoto.Partially Crystallized Ba-Ferrite Thin Films for High Density Magnetic Recording[J].Journal of Magnetic Materials and Devices,1999,30(1):23-27. |
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| Authors: | Bai Jianmin Liu Xiaoxi Xie Tian Wei Fulin Yang Zheng Mitsunori Matsumoto |
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