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钇铁石榴石单晶薄膜的生长及特性
引用本文:刘湘林,王洪祥,徐梅娣.钇铁石榴石单晶薄膜的生长及特性[J].稀土,1986(3).
作者姓名:刘湘林  王洪祥  徐梅娣
作者单位:中国科学院上海冶金研究所 (刘湘林,王洪祥),中国科学院上海冶金研究所(徐梅娣)
摘    要:用液相外延法生长钇铁石榴石单晶薄膜,研究了外延工艺对膜的生长速率和性能的影响,膜厚重复性达±5%,并通过调节生长温度来控制膜中Pb和Pt的含量,使Pb~(2+)和Pt~(4+)离子达到电荷补偿,得到最佳的铁磁共振线宽(△H)为0.70e,这种薄膜已被做成微波器件。

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