钇铁石榴石单晶薄膜的生长及特性 |
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引用本文: | 刘湘林,王洪祥,徐梅娣.钇铁石榴石单晶薄膜的生长及特性[J].稀土,1986(3). |
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作者姓名: | 刘湘林 王洪祥 徐梅娣 |
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作者单位: | 中国科学院上海冶金研究所
(刘湘林,王洪祥),中国科学院上海冶金研究所(徐梅娣) |
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摘 要: | 用液相外延法生长钇铁石榴石单晶薄膜,研究了外延工艺对膜的生长速率和性能的影响,膜厚重复性达±5%,并通过调节生长温度来控制膜中Pb和Pt的含量,使Pb~(2+)和Pt~(4+)离子达到电荷补偿,得到最佳的铁磁共振线宽(△H)为0.70e,这种薄膜已被做成微波器件。
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