| ITO靶材的研究现状与发展趋势 |
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| 引用本文： | 李音波,李卫华,闫琳,余前春,韩志伟.ITO靶材的研究现状与发展趋势[J].功能材料,2004,35(Z1):996-1000. |
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| 作者姓名： | 李音波 李卫华 闫琳 余前春 韩志伟 |
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| 作者单位： | 李音波（北京有色金属研究总院,有研亿金新材料股份有限公司,北京,100088）;李卫华（北京有色金属研究总院,有研亿金新材料股份有限公司,北京,100088）;闫琳（北京有色金属研究总院,有研亿金新材料股份有限公司,北京,100088）;余前春（北京有色金属研究总院,有研亿金新材料股份有限公司,北京,100088）;韩志伟（北京有色金属研究总院,有研亿金新材料股份有限公司,北京,100088） |
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| 摘 要： | 概述了ITO靶材的应用范围和日益增大的市场需求;对ITO靶材的加工技术和工艺进行了探讨,对ITO薄膜的特性进行了描述;并讨论了ITO靶材所面临的技术问题及发展趋势
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| 关 键 词： | ITO靶材 透明导电膜 烧结工艺 |
| 文章编号： | 1001-9731(2004)增刊-0996-05 |
| 修稿时间： | 2004年5月26日 |
Review on research status and development trend of ito target material |
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