纹膜结构用于电容式硅微麦克风的研究 |
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引用本文: | 邹泉波,刘理天,李志坚.纹膜结构用于电容式硅微麦克风的研究[J].半导体学报,1996,17(12):907-913. |
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作者姓名: | 邹泉波 刘理天 李志坚 |
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作者单位: | 清华大学微电子学研究所 |
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摘 要: | 本文提出的一种纹膜结构单硅片微麦克风,采用了硅微机械技术,且实现了麦克风电容两电极之间的自对准,大大提高了麦克风的生产效率,降低了成本.纹膜结构有降低和消除膜内应力的作用,而纹膜的三维结构使麦克风电容的有效面积有所增加,这些都显著地提高了麦克风的灵敏度,是该项新结构的关键.本文从理论和实验上对纹膜结构机械性能与结构尺寸参数之间的关系,及结构的优化进行了研究.通过对制作出的不同结构参数q值的麦克风的测试,得到了与初步理论分析基本相符的实验结果.实验证明,纹膜结构具有比相应的平膜结构高得多的机械灵敏度和麦克风
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关 键 词: | 硅微麦克风 纹膜结构 电容式 麦克风 |
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