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| 表面粗糙度测量的新方法 | |
| 引用本文： | 张国雄.表面粗糙度测量的新方法[J].制造技术与机床,1990(2). |
| 作者姓名： | 张国雄 |
| 作者单位： | 天津大学 |
| 摘 要： | 近年来,表面粗糙度测量的研究,十分引人注 目,发展迅速。这主要与下列事实有关: 1.物体与构件的许多重要性能,例如摩擦、磨损、外观、光学特性、泄漏等,都在很大程度上取决于工件的表面粗糙度; 2.由于工件表面状态对构件性能的重要性,一系列表面加工方法,例如各种镀层,得到迅速发展,这就提高了表面粗糙度测量的重要性; 3.对机械加工的精度要求日益提高,这首先体现在对表面质量的要求上。人类已进入纳米时代,对于半导体掩膜、磁盘、宇宙空间用光学镜片、环形激光陀螺中,均已提出高精度地测量表面粗糙度的均方根值在1nm以内非常光滑表面的要求… |
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