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电沉积Cu-W电接触材料复合镀层性能的研究
引用本文:王道刚,李远会,李广宇,凌莎,代志兴.电沉积Cu-W电接触材料复合镀层性能的研究[J].现代机械,2008(6).
作者姓名:王道刚  李远会  李广宇  凌莎  代志兴
作者单位:贵州大学材料科学与冶金工程学院,贵州,贵阳,550003
基金项目:贵州大学SRT计划  
摘    要:本文是在纯铜表面利用复合电沉积的方法,形成Cu-W复合镀层,并对复合镀层表面显微形貌、显微硬度和电性能进行研究。结果表明:Cu-W复合镀层具有合适的硬度、稳定且较低的接触电阻及电接触寿命高等特点。

关 键 词:复合电沉积  电接触材料  Cu-W  电性能

Study on Composite Deposis Properties of Cu-W Electrical Contact Material by Electrodeposition
WANG Daogang,LI Yuanhui,LIGuangyu,LING Sha,DAI Zhixing.Study on Composite Deposis Properties of Cu-W Electrical Contact Material by Electrodeposition[J].Modern Machinery,2008(6).
Authors:WANG Daogang  LI Yuanhui  LIGuangyu  LING Sha  DAI Zhixing
Abstract:The paper making use of composite electrodeposition to deposit Cu-W composite deposits on the surface of pure Copper,and studies on microscopic appearance,microhardness and electrical property.The result show: The Cu-W composite deposits have characteristic of appropriate hardness,stabilized and lower contact resistance,electrical contact life hight.
Keywords:Cu-W
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