| 纳米压印技术进展及应用 |
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| 引用本文： | 罗康,段智勇.纳米压印技术进展及应用[J].电子工艺技术,2009,30(5):253-257. |
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| 作者姓名： | 罗康 段智勇 |
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| 作者单位： | 郑州大学,河南,郑州,450001 |
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| 基金项目： | 河南省教育厅自然科学基金项目 |
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| 摘 要： | 半导体加工几十年里一直采用光学光刻技术实现图形转移,最先进的浸润式光学光刻在45 nm节点已经形成产能,然而,由于光学光刻技术固有的限制,已难以满足半导体产业继续沿着摩尔定律快速发展.在下一代图形转移技术中,电子束直写、X射线曝光和纳米压印技术占有重要地位.其中纳米压印技术具有产量高、成本低和工艺简单的优点,是纳米尺寸电子器件的重要制作技术.介绍了传统纳米压印技术以及纳米压印技术的新进展,如热塑纳米压印技术、紫外固化纳米压印技术、微接触纳米压印技术、气压辅助纳米压印技术、激光辅助压印技术、静电辅助纳米压印技术、超声辅助纳米压印技术和滚轴式纳米压印技术等.
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| 关 键 词： | 纳米压印 气压辅助压印 激光辅助压印 滚轴式压印 |
Nanoimprint Technology and Applications |
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| LUO Kang,DUAN Zhi-yong.Nanoimprint Technology and Applications[J].Electronics Process Technology,2009,30(5):253-257. |
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| Authors: | LUO Kang DUAN Zhi-yong |
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