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分类号
杂志ISSN号
半导体的激光退火
作者姓名:
宇飞
作者单位:
宇飞
:
摘 要:
对半导体元件的激光退火虽然进行了认真的研究,但还没有使此项技术用到任何生产线上。不过,已导致器件样机的制作,并对它的基础物理学有较多的了解。进一步进展可能导向制作半导体的新途径,使用激光退火消除在掺杂和晶体生长期间产生的缺陷。
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