| Rietveld法模拟计算金属铀真空热氧化膜物相的含量 |
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| 引用本文： | 周萍,汪小琳,张延志,杨江荣,管卫军.Rietveld法模拟计算金属铀真空热氧化膜物相的含量[J].中国材料科技与设备,2007,4(2):105-107. |
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| 作者姓名： | 周萍 汪小琳 张延志 杨江荣 管卫军 |
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| 作者单位： | 中国工程物理研究院,四川绵阳621900 |
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| 基金项目： | 中国工程物理研究院基金课题资助项目（20050863） |
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| 摘 要： | 在400℃、500℃和600℃下对表面已氧化的金属铀进行真空热氧化退火处理，生成银白色的氧化膜表面。采用、XRD对氧化膜的成分进行了表征，并用Rietveld方法定量分析了金属铀真空热氧化膜中物相的含量。结果表明400℃和500℃时氧化膜主要为U和UO2，600℃时氧化膜中还出现了大量的UC，且U的含量明显增大，UO2含量减少。
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| 关 键 词： | 铀 氧化膜 Rietveld方法 |
Quantitative Phase Analysis of Vacuum Heat Treated Oxide Film of Uranium by Rietveld Method |
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| ZHOU Ping ,WANG Xiao-lin ,ZHANG Yan-zhi , YANG Jiang-rong ,GUAN Wei-jun.Quantitative Phase Analysis of Vacuum Heat Treated Oxide Film of Uranium by Rietveld Method[J].Chinese Materials Science Technology & Equipment,2007,4(2):105-107. |
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| Authors: | ZHOU Ping WANG Xiao-lin ZHANG Yan-zhi YANG Jiang-rong GUAN Wei-jun |
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| Affiliation: | China Academy of engineering physics, Sichuan, Mianyang, 621900, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Uranium Oxide film Rietveld method |
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