| 螯合沉淀法处理含铬电镀废水 |
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| 引用本文： | 刘培,陈晨. 螯合沉淀法处理含铬电镀废水[J]. 电镀与涂饰, 2013, 32(5): 45-48 |
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| 作者姓名： | 刘培 陈晨 |
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| 作者单位： | 南京理工大学泰州科技学院,江苏泰州,225300 |
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| 摘 要： | 以NaHSO3为还原剂,新型重金属离子捕集剂DTCR为螯合剂,采用螯合沉淀法处理含铬电镀废水。研究了还原剂投加量、还原反应阶段的废水pH、螯合剂投加量、絮凝剂(PAM)投加量、螯合沉淀阶段的废水pH和搅拌时间对处理效果的影响。还原反应的较优工艺为:NaHSO3200mg/L,废水pH1.84,搅拌时间30min。螯合沉淀的最佳工艺条件为:DTCR70mg/L,PAM8mg/L,废水pH8.0,搅拌时间40min。采用最佳螯合沉淀工艺处理含铬电镀废水时,总铬去除率在95%以上,出水总铬为0.14mg/L,且未检测到其他重金属离子,可达标排放。
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| 关 键 词： | 电镀 废水 铬 重金属捕集剂 还原 螯合 沉淀 |
Treatment of plating wastewater containing chromium by chelating precipitation |
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| LIU Pei , CHEN Chen. Treatment of plating wastewater containing chromium by chelating precipitation[J]. Electroplating & Finishing, 2013, 32(5): 45-48 |
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| Authors: | LIU Pei CHEN Chen |
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| Affiliation: | Taizhou Institute of Science and Technology, Nanjing University of Science and Technology, Taizhou 225300, China |
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