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不对称交流脉冲电位法制备聚8–羟基喹啉薄膜工艺
引用本文:刘小勤,曾冬铭,徐钦建,黄凤祥,刘中兴.不对称交流脉冲电位法制备聚8–羟基喹啉薄膜工艺[J].电镀与涂饰,2013,32(5):1-5.
作者姓名:刘小勤  曾冬铭  徐钦建  黄凤祥  刘中兴
作者单位:1. 中南大学化学化工学院,湖南长沙,410083
2. 中南大学化学化工学院,湖南长沙410083;中南大学有色金属资源化学教育部重点实验室,湖南长沙410083
3. 特能宝化学原料有限公司,广东佛山,528000
基金项目:中南大学中央高校基本科研业务费专项资金资助
摘    要:采用不对称交流脉冲电位法在镀镍工件表面制备聚8–羟基喹啉薄膜。研究了阶跃电位、阶跃时间、重复次数和溶液中8–羟基喹啉含量等工艺条件对电沉积聚8–羟基喹啉薄膜的影响。分别采用塔菲尔曲线测量、扫描电镜和能谱分析对电沉积后工件的耐蚀性、薄膜的表面形貌和组成进行分析。最佳工艺条件为:8–羟基喹啉0.002mol/L,氢氧化钠0.4mol/L,正阶跃电位0.55V,负阶跃电位0.05V,正阶跃时间0.2s,负阶跃时间0.1s,重复次数100。采用最佳工艺处理后,工件的腐蚀电位、腐蚀速率分别为0.32V和4.1581×103g/(m2·h),耐蚀性优于未处理的工件,且与铬钝化处理的工件相当。

关 键 词:8-羟基喹啉  聚合  电沉积  不对称交流脉冲电位法  镀镍  耐蚀性

Preparation process of poly-8-hydroxyquinoline film by asymmetrical pulse-reverse potentiostatic method
LIU Xiao-qin , ZENG Dong-ming , XU Qin-jian , HUANG Feng-xiang , LIU Zhong-xing.Preparation process of poly-8-hydroxyquinoline film by asymmetrical pulse-reverse potentiostatic method[J].Electroplating & Finishing,2013,32(5):1-5.
Authors:LIU Xiao-qin  ZENG Dong-ming  XU Qin-jian  HUANG Feng-xiang  LIU Zhong-xing
Affiliation:School of Chemistry and Chemical Engineering, Central South University, Changsha 410083, China
Abstract:
Keywords:
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