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铍上铝镀层微观结构研究
引用本文:李瑞文,鲜晓斌,邹觉生.铍上铝镀层微观结构研究[J].稀有金属,2002,26(4):277-280.
作者姓名:李瑞文  鲜晓斌  邹觉生
作者单位:中国工程物理研究院,绵阳,621900
摘    要:采用磁控溅射离子镀和等离子喷涂方法在Be表面制备铝镀层,并分别用扫描电镜(SEM),透射电镜(TEM),X射线衍射仪(XRD),俄歇电子能谱仪(AES)和X射线应力的分析仪分析了膜层微结构,表面形貌,膜与基体界面情况以及内应力等。研究表明,Be上磁控溅射离子镀Al时,在膜基界面形成宽度约为1μm的Be,Al原子共混区,膜层由柱状晶组成,膜层应力为微压应力。等离子喷涂涂层不如前者致密,界面存在微裂纹,膜层应力为拉应力。

关 键 词:  膜层  微观结构  界面  应力
文章编号:0258-7076(2002)04-0277-04
修稿时间:2001年11月26

Microstructure of Al Coating on Beryllium Substrate
Li Ruiwen,Xian Xiaobin and Zou Juesheng.Microstructure of Al Coating on Beryllium Substrate[J].Chinese Journal of Rare Metals,2002,26(4):277-280.
Authors:Li Ruiwen  Xian Xiaobin and Zou Juesheng
Abstract:
Keywords:Beryllium  Al coating  Microstructure  Interface  Internal stress  
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