| 用在可制造性设计中的光刻规则检查 |
| |
| 引用本文： | 陆梅君,金晓亮,毛智彪,梁强.用在可制造性设计中的光刻规则检查[J].半导体技术,2006,31(12):920-923. |
| |
| 作者姓名： | 陆梅君 金晓亮 毛智彪 梁强 |
| |
| 作者单位： | 1. 上海宏力半导体制造有限公司,上海,201203;中国科学院,上海微系统与信息技术研究所,上海,200050;中国科学院研究生院,北京,100039
2. 上海宏力半导体制造有限公司,上海,201203 |
| |
| 摘 要： | 可制造性设计(DFM)已经发展成为优化通晓制造技术设计中的有效工具,它包含从理论、规则到工具的整体应用来提升从设计到硅片的流程.基于制程模型的光刻规则检查(LRC),可查出没被设计规则检查(DRC)出来的设计布局的不足之处.本设计把光刻规则检查加入到设计流程中,用来优化设计规则,改善布局更有利光学邻近效应修正,使布局图形有更大的制程窗口.
|
| 关 键 词： | 可制造性设计 光刻规则检查 光学邻近效应修正 设计规则 制程窗口 可制造性设计 光刻 设计规则检查 Flow Insertion 窗口 图形 改善布局 邻近效应修正 光学 设计流程 设计布局 模型 硅片 应用 理论 技术设计 优化 发展 |
| 文章编号： | 1003-353X(2006)12-0920-04 |
| 收稿时间： | 2006-04-17 |
| 修稿时间： | 2006年4月17日 |
Litho-Rule Checking Insertion into DFM Flow |
| |
| LU Mei-jun,JIN Xiao-liang,MAO Zhi-biao,LIANG Qiang.Litho-Rule Checking Insertion into DFM Flow[J].Semiconductor Technology,2006,31(12):920-923. |
| |
| Authors: | LU Mei-jun JIN Xiao-liang MAO Zhi-biao LIANG Qiang |
| |
| Affiliation: | 1. Grace Semiconductor Manufacturing Corporation, Shanghai 201203, China; 2.Shanghai Institute of Mierosystem and Information Technology, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 200050, China;3.Graduate School of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100039, China |
| |
| Abstract: | Design for manufacturability (DFM) is becoming an efficient tool for optimizing the manufacturing-aware design, including principle, rules, tools, and methodologies to optimize the profitability of overall design-to-silicon flow. Based on process model, lithographic rule checking (LRC) could detect the weak points of the pattern layout unnoticed with geometric DRC. In this work LRC was inserted into the DFM flow to optimize the design rules, providing the OPC friendly layout and making the process window mask shape. |
| |
| Keywords: | DFM litho-rule checking OPC design rule process window |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
