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| 高矫顽力磁带快速复制用MIG磁头的研究 | |
| 引用本文： | 魏福林,石磊,杨正.高矫顽力磁带快速复制用MIG磁头的研究[J].信息记录材料,1993(4). |
| 作者姓名： | 魏福林 石磊 杨正 |
| 作者单位： | 兰州大学磁性材料研究所，兰州大学磁性材料研究所，兰州大学磁性材料研究所 |
| 摘 要： | 本文对铁氧体磁头在高矫顽力磁带上进行录制时磁头极尖的磁性饱和对信号录制造成的影响进行了讨论;介绍了在锰锌铁氧磁芯上溅射铁镍(FeNi)膜制作用于高矫顽力磁带复制的 MIG 磁头的研究结果。实验表明,溅射 FeNi 膜 MIG 磁头即使在较窄的缝隙长度时也可防止极尖饱和,提高磁头的短波长记录特性 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |