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Si/a-Si:H异质结微波双极型晶体管实验研究
引用本文:王因生,盛文伟,汪建元,张晓明,熊承堃,朱恩均. Si/a-Si:H异质结微波双极型晶体管实验研究[J]. 半导体学报, 1989, 10(6): 475-478
作者姓名:王因生  盛文伟  汪建元  张晓明  熊承堃  朱恩均
作者单位:南京电子器件研究所 南京(王因生,盛文伟,汪建元,张晓明,熊承堃),北京大学微电子研究所 北京(朱恩均)
摘    要:本文首次报道采用重掺杂的氢化非晶硅(n~+a-Si∶H)作发射极的硅微波双极型晶体管的制备和特性.该器件内基区方块电阻2kΩ/□,基区宽度0.1μm,共发射极最大电流增益21(V_(cB)=6V,I_c=15mA),发射极Gummel数G_B值已达1.4×10~(14)Scm~(-4).由S参数测得电流增益截止频率f_s=5.5GHz,最大振荡频率f_(max)=7.5GHz.在迄今有关Si/a-Si HBT的报道中,这是首次报道可工作于微波领域里的非晶硅发射极异质结晶体管.

关 键 词:Si/a-Si:H 微波 双极晶体管

Experimental Study on a Si/a-Si:H Heterojunction Microwave Bipolar Transistor
Wang Yinsheng/Nanjing Electronic Devices Institute,Nanjing Sheng Wenwei/Nanjing Electronic Devices Institute,Nanjing Wang Jianyuan/Nanjing Electronic Devices Institute,Nanjing Zhang Xiaoming/Nanjing Electronic Devices Institute,Nanjing Xiong Chengkun/Nanjing Electronic Devices Institute,Nanjing Zhu Enjun/Institute of Microelectronics,Beijing University,Beijing. Experimental Study on a Si/a-Si:H Heterojunction Microwave Bipolar Transistor[J]. Chinese Journal of Semiconductors, 1989, 10(6): 475-478
Authors:Wang Yinsheng/Nanjing Electronic Devices Institute  Nanjing Sheng Wenwei/Nanjing Electronic Devices Institute  Nanjing Wang Jianyuan/Nanjing Electronic Devices Institute  Nanjing Zhang Xiaoming/Nanjing Electronic Devices Institute  Nanjing Xiong Chengkun/Nanjing Electronic Devices Institute  Nanjing Zhu Enjun/Institute of Microelectronics  Beijing University  Beijing
Abstract:
Keywords:a-Si:H  Heterojunction  Microwave bipolar transistor
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