| 形核密度对CVD金刚石涂层附着性能的影响 |
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| 引用本文： | 邓福铭,吴学林,赵晓凯.形核密度对CVD金刚石涂层附着性能的影响[J].超硬材料工程,2012,24(2). |
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| 作者姓名： | 邓福铭 吴学林 赵晓凯 |
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| 作者单位： | 中国矿业大学(北京)超硬刀具材料研究所,北京,100083 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，科技人员服务企业行动计划项目，北京市教委共建项目 |
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| 摘 要： | 采用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在硬质合金基体上进行金刚石的形核生长,使用扫描电镜(SEM)对金刚石涂层形核情况进行分析,研究了不同形核密度对CVD金刚石涂层附着力的影响。结果表明:当碳源浓度达到3%时,表面形核密度最高,约为107/cm2;浓度增大为4%时,形核密度降低。通过压痕实验对比分析得出形核工艺中碳源浓度为3%时沉积的金刚石涂层压痕最浅,压痕直径最小,金刚石涂层具有良好的附着性能。
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| 关 键 词： | 化学气相沉积(CVD) 金刚石涂层 硬质合金 彤核密度 |
Effects of the nucleation density on the adhesion property of CVD diamond coating |
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| Authors: | DENG Fu-ming WU Xue-lin ZHAO Xiao-kai |
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