| 使用光刻法在金刚石台面制备金属薄膜电极 |
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| 引用本文： | 赵庆娟. 使用光刻法在金刚石台面制备金属薄膜电极[J]. 超硬材料工程, 2012, 24(2) |
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| 作者姓名： | 赵庆娟 |
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| 作者单位： | 青岛双瑞海洋环境工程股份有限公司,山东青岛,266101 |
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| 摘 要： | 金刚石对顶砧是实验室常用的产生流体静力学压力的装置,其核心部件是两颗对顶的金刚石.金刚石具有其它材料难以比拟的超高硬度和对电磁波的高透过率,所以金刚石压砧在高压研究中扮演着重要的角色.文章介绍一种光刻法在金刚石台面上制备金属薄膜电极用以测量材料电阻率的工艺.
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| 关 键 词： | 金刚石对顶砧 高压 流体静力学压力 金属薄膜电极 |
Fabrication of metal thin film electrodes on culet of diamond by photolithography |
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| ZHAO Qing-juan. Fabrication of metal thin film electrodes on culet of diamond by photolithography[J]. , 2012, 24(2) |
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| Authors: | ZHAO Qing-juan |
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