| 脉冲真空电弧离子镀发射特性的测量 |
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| 引用本文： | 蔡长龙,杭凌侠,李刚,徐均琪,严一心,朱昌.脉冲真空电弧离子镀发射特性的测量[J].光学仪器,2001(Z1). |
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| 作者姓名： | 蔡长龙 杭凌侠 李刚 徐均琪 严一心 朱昌 |
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| 作者单位： | 西安交通大学电气工程学院，西安工业学院光电工程与科学系，西安工业学院光电工程与科学系，西安工业学院光电工程与科学系，西安工业学院光电工程与科学系，西安工业学院光电工程与科学系 陕西，西安710049
西安工业学院光电工程与科学系，陕西，西安710032，陕西，西安710032，陕 |
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| 基金项目： | 陕西省自然科学研究计划项目 ( 2 0 0 C2 5 ) |
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| 摘 要： | 通过大量工艺实验 ,镀制了改变脉冲真空电弧离子源电源参数 (主回路电压 ,脉冲频率 )、基片高度以及磁场等工艺参数的样品 ,选择了一种合适的膜厚测量仪器进行了膜厚分布测量 ,获得了离子源各种工艺参数对其发射特性影响的曲线
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| 关 键 词： | 膜厚测量 离子源 薄膜沉积 |
Measuring on emission characteristic of pulse vacuum arc ion deposition |
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| CAI Chang long,HANG Ling xi,LI Gang,XU Jun qi,YAN Yi xin,ZHU Chang.Measuring on emission characteristic of pulse vacuum arc ion deposition[J].Optical Instruments,2001(Z1). |
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| Authors: | CAI Chang long HANG Ling xi LI Gang XU Jun qi YAN Yi xin ZHU Chang |
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| Affiliation: | CAI Chang long 1,2,HANG Ling xia 2,LI Gang 2,XU Jun qi 2,YAN Yi xin 2,ZHU Chang 2 |
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| Abstract: | In this paper,many technical experiments be done with various source parameters of pulse vacuum electric arc ion source,such as direct loop voltage,pulse frequency,and with various plating height and magnetic intensity of magnetic field,various samples be plated.Meantime,a film thick measuring instrument be selected to measure the distributing of film thick,and then,the relation curve of various technical parameters with emission characteristics be accomplished. |
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| Keywords: | film thick measuring ion source film deposition |
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