| 热处理工艺对合金薄膜电阻及其稳定性的影响 |
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| 引用本文： | 彭银桥,甘元驹.热处理工艺对合金薄膜电阻及其稳定性的影响[J].传感器与微系统,2005,24(7):27-28,31. |
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| 作者姓名： | 彭银桥 甘元驹 |
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| 作者单位： | 湛江海洋大学,信息学院,广东,湛江,524088 |
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| 摘 要： | 利用离子束溅射镀膜技术,在17-4PH不锈钢弹性衬底上直接溅射SiO2绝缘膜和NiCr薄膜,制备了一种新型的压力传感器用合金薄膜.分析了热处理工艺对合金薄膜电阻稳定性的影响,对NiCr薄膜电阻进行了4种热处理工艺,获得了使合金薄膜电阻长期稳定的热处理工艺参数:在SiOx和N2的保护下,673K退火1h,并在473K下保温24h.用该工艺能制备适应各种恶劣环境的高精度压力传感器.
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| 关 键 词： | 薄膜合金电阻 压力传感器 热处理 稳定性 热处理工艺 合金薄膜 薄膜电阻 电阻稳定性 影响 stability resistance thin film alloy treatment process heat 高精度压力传感器 恶劣环境 适应 艺能 保温 退火 的保护 SiOx 工艺参数 |
| 文章编号： | 1000-9787(2005)07-0027-02 |
Effects of heat treatment process on alloy thin film resistance and its stability |
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| PENG Yin-qiao,GAN Yuan-ju.Effects of heat treatment process on alloy thin film resistance and its stability[J].Transducer and Microsystem Technology,2005,24(7):27-28,31. |
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| Authors: | PENG Yin-qiao GAN Yuan-ju |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | thin film alloy resistance pressure sensors heat treatment stability |
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