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工件电位对奥氏体不锈钢活性屏离子渗氮的影响
引用本文:赵程,王礼银,韩莉. 工件电位对奥氏体不锈钢活性屏离子渗氮的影响[J]. 金属热处理, 2007, 32(11): 42-45
作者姓名:赵程  王礼银  韩莉
作者单位:青岛科技大学,表面技术研究所,山东,青岛,266061;青岛科技大学,表面技术研究所,山东,青岛,266061;青岛科技大学,表面技术研究所,山东,青岛,266061
摘    要:用活性屏离子渗氮技术分别对处于悬浮电位和阳极电位的AISI 316L奥氏体不锈钢进行低温渗氮处理.并对渗氮层的组织、形貌、相结构、显微硬度和耐蚀性能进行分析.结果表明,在这两种电位状态下处理的试样均可获得具有S相结构特征的单相硬化层.渗氮层不仅具有高的硬度,还有良好的耐蚀性能.在活性屏离子渗氮过程中,从活性屏上溅射下来的中性S相粒子也可以起到氮载体的作用.活性屏空间中性粒子和电子的撞击足以消除不锈钢表面钝化膜对氮的阻隔作用.

关 键 词:奥氏体不锈钢  活性屏离子渗氮  悬浮电位  阳极电位
文章编号:0254-6051(2007)11-0042-04
收稿时间:2007-05-23
修稿时间:2007-05-23

Effect of Component's Potential on Active Screen Plasma Nitriding of Austenitic Stainless Steel
ZHAO Cheng,WANG Li-yin,HAN Li. Effect of Component's Potential on Active Screen Plasma Nitriding of Austenitic Stainless Steel[J]. Heat Treatment of Metals, 2007, 32(11): 42-45
Authors:ZHAO Cheng  WANG Li-yin  HAN Li
Abstract:
Keywords:
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