| α籽晶促进低温反应溅射沉积α-Al2O3薄膜 |
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| 引用本文： | 李修贤,邱万奇,焦东玲,钟喜春,刘仲武.α籽晶促进低温反应溅射沉积α-Al2O3薄膜[J].材料研究学报,2022,36(1):8-12. |
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| 作者姓名： | 李修贤 邱万奇 焦东玲 钟喜春 刘仲武 |
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| 作者单位： | 华南理工大学 材料科学与工程学院 广州 510640 |
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| 摘 要： | 分别使用反应溅射Al+α-Al2O3(15% α-Al2O3，质量分数)复合靶和在金箔基体表面预植α-Al2O3籽晶，促进α-Al2O3薄膜的低温沉积。使用扫描电子显微镜(SEM)、掠入射X射线衍射(GIXRD)和能谱仪(EDS)等方法表征薄膜样品的表面形貌、相结构和元素组成。结果表明，在射频反应溅射Al+α-Al2O3复合靶、沉积温度为560℃条件下能在Si(100)基体上沉积出化学计量比的单相α-Al2O3薄膜；使用射频反应溅射Al靶、沉积温度为500℃条件下能在预植α-Al2O3籽晶(籽晶密度为106/cm2)的金箔表面沉积出化学计量比的单相α-Al2O3薄膜。两种研究方案的结果均表明，α-Al2O3籽晶能促进低温沉积单相α-Al2O3薄膜。
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| 关 键 词： | 材料表面与界面 α-Al2O3薄膜 反应溅射 α籽晶 低温沉积 |
| 收稿时间： | 2021-04-19 |
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