| 微波等离子体增强法合成氮杂二氧化钒 |
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| 引用本文： | 陈金民,黄志良,刘羽,王升高. 微波等离子体增强法合成氮杂二氧化钒[J]. 钢铁钒钛, 2007, 28(2): 6-8,26 |
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| 作者姓名： | 陈金民 黄志良 刘羽 王升高 |
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| 作者单位： | 武汉工程大学湖北省等离子体重点实验室,湖北,武汉,430074;武汉工程大学湖北省等离子体重点实验室,湖北,武汉,430074;武汉工程大学湖北省等离子体重点实验室,湖北,武汉,430074;武汉工程大学湖北省等离子体重点实验室,湖北,武汉,430074 |
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| 基金项目： | 湖北省自然科学基金 , 湖北省科技厅科技攻关项目 |
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| 摘 要： | 选用V2O5为前驱物,通过在玻璃片上镀膜,利用高纯氢和高纯氮作为气源,采用微波等离子体增强法,在低温条件下合成了氮杂二氧化钒(VO2-xNy)样品.通过XRD表征了样品的成分,结果表明:合成的样品为氮杂二氧化钒,样品的结晶度较低,颗粒尺寸较小;相变温度测试结果表明:通过氮掺杂可以有效降低二氧化钒薄膜的相变温度,目前最低可以降低至42 ℃.
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| 关 键 词： | 微波等离子体增强 氮杂VO2-xNy 薄膜 相变温度 |
| 文章编号： | 1004-7638（2007）02-0006-03 |
| 修稿时间： | 2006-09-30 |
Synthesizing VO2-xNy Thin Films by Microwave Plasma Enhanced Processes |
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| Chen Jinmin,Huang Zhiliang,Liu Yu,Wang Shenggao. Synthesizing VO2-xNy Thin Films by Microwave Plasma Enhanced Processes[J]. Iron Steel Vanadium Titanium, 2007, 28(2): 6-8,26 |
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| Authors: | Chen Jinmin Huang Zhiliang Liu Yu Wang Shenggao |
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| Affiliation: | Hubei Province Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advance Materials, Wuhan Institute of Chemical Technology, Wuhan 430074, Hubei, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | microwave plasma enhanced nitrogen doped VO2-xNy thin film phase transition temperature |
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