溅射功能对TbFeCo磁光薄膜特性的影响 |
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引用本文: | 杨峰,张晓卫.溅射功能对TbFeCo磁光薄膜特性的影响[J].真空电子技术,1997(6):43-45,48. |
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作者姓名: | 杨峰 张晓卫 |
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摘 要: | 研究直流磁控溅射中溅射率对TbFeCo磁光薄膜成分均匀性、厚度均匀性、克尔旋转角θk和矫顽力Hc的影响。实验结果表明对于全金属互化物相(100%IM)TbFeCo合金靶。若采用适当的溅射功率,不但能够实现高速率溅射,而且可获得较好的成分和厚度均匀性,同时溅射所得薄膜具有大的克尔旋转角和合适的矫顽力。此工艺参数被用一磁光盘的生产。
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关 键 词: | 磁光薄膜 溅射功率 磁光记录技术 |
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