|
|||||
|
|
| 离子束溅射制备立方C-N化合物 | |
| 引用本文： | 王天生,于栋利,田永君,何巨龙,李东春,李林.离子束溅射制备立方C-N化合物[J].金属学报,2000,36(11):1201-1204. |
| 作者姓名： | 王天生 于栋利 田永君 何巨龙 李东春 李林 |
| 作者单位： | 1. 燕山大学材料科学与化学工程学院,秦皇岛,066004;中国科学院物理研究所,北京,100080 2. 燕山大学材料科学与化学工程学院,秦皇岛,066004 3. 中国科学院物理研究所,北京,100080 |
| 基金项目： | 河北省自然科学基金资助项目566194 |
| 摘 要： | 用氮离子束分别原位溅射Ｔｉ和石墨靶的方法制备了ＣＮｘ／ＴｉＮｙ多层膜。用Ｘ射线光电子谱分析ＣＮｘ层中Ｃ和Ｎ的键合状态，用透射电镜观察薄膜中的相形貌，用电子衍射和Ｘ射线衍射的方法分析相的结构。结果表明，ＣＮｘ层中主要有Ｎ－ｓｐ＾２Ｃ和Ｎ－ｓｐ＾３Ｃ两种键合状态，薄膜中观察到的Ｃ－Ｎ化合物尺寸为１０－６０ｎｍ的晶体颗粒，其衍射数据可用立方Ｃ３Ｎ４结构标定，证实了该薄膜中存在立方Ｃ３Ｎ４化合物。 |
| 关 键 词： | C－N化合物 离子束溅射 制备 立方结构 |
| 文章编号： | 0412-1961(2000)11-1201-04 |
| 修稿时间： | 1999年11月15 |
CUBIC C-N COMPOUND PREPARED BY ION BEAM SPUTTERING |
|
| WANG Tiansheng,YU Dongli,TIAN Yongjun,HE Julong,LI Dongchun,LI Lin.CUBIC C-N COMPOUND PREPARED BY ION BEAM SPUTTERING[J].Acta Metallurgica Sinica,2000,36(11):1201-1204. | |
| Authors: | WANG Tiansheng YU Dongli TIAN Yongjun HE Julong LI Dongchun LI Lin |
| Abstract: | CNx/TiNy multilayer films were prepared by a nitrogen ion beam in situ sputtering titanium and graphite targets alternatively. Two C-N bonding states of CNx layer, N-sp2C and N-sp3C, have been defined by X-ray photoelectron spectroscopy. The morphology of C-N compounds observed by transmission electron microscopy is particle--like with sizes of 10-60nm. Electron diffraction and X-ray diffraction show cubic C3N4 exists in the film. |
| Keywords: | C-N compound ion beam sputtering |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ | |