| 材料的出气分析以及TiN 薄膜表面改性作用 |
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| 引用本文： | 郑晓阳,张永清,赵金玉.材料的出气分析以及TiN 薄膜表面改性作用[J].微波学报,2010,26(Z1):698-700. |
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| 作者姓名： | 郑晓阳 张永清 赵金玉 |
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| 作者单位： | 中国科学院电子学研究所，中国科学院高功率微波源与技术重点实验室，北京100190 |
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| 摘 要： | 为了满足微波器件对材料的真空性能越来越高的要求，本文对材料的出气原因、过程以及不同气体在材料内的扩散特点等进行了初步的分析探索，指出材料在保持原有物化特性的基础上，通过表面改性，可以提高其真空品质。最后本文利用经过表面镀TiN 膜的不锈钢材料与无镀膜的相同材料，在高温烘排后放出的气体量进行对比试验，结果表明通过TiN 覆膜这种表面改性工艺可以提高微波器件材料的真空性能。
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| 关 键 词： | 表面改性 出气率 反应溅射 |
The Analysis of the Material Outgassing and the Surface Modification of TiN Coating Film |
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| ZHENG Xiao-yang,ZHANG Yong-qing,ZHAO Jin-qiu.The Analysis of the Material Outgassing and the Surface Modification of TiN Coating Film[J].Journal of Microwaves,2010,26(Z1):698-700. |
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| Authors: | ZHENG Xiao-yang ZHANG Yong-qing ZHAO Jin-qiu |
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| Affiliation: | Key Laboratory of High Power Microwave Sources and Technologies, Institute of Electronics, Chinese Academy of Sciences,Beijing,100190,China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | surface modification outgassing rate reactive sputtering |
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