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荫罩双层清洗黑化技术的开发及应用
引用本文:王建平,边辉,翟书原,郭荒. 荫罩双层清洗黑化技术的开发及应用[J]. 真空电子技术, 2001, 0(5): 45-46
作者姓名:王建平  边辉  翟书原  郭荒
作者单位:彩虹显示器件股份有限公司
摘    要:着重论述了彩色显像管荫罩清洗黑化工序,如何通过改进设备,优化生产工艺,达到产量翻番的目的。

关 键 词:清洗 黑化 荫罩 彩管
文章编号:1002-8935(2001)03-0045-02
修稿时间:2000-02-16

Development and Application of the Shadow Mask Double Deck Cleaning Blackening Technology
WANG Jian ping,BIAN Hui,ZHAI Shu yuan,GUO Huang. Development and Application of the Shadow Mask Double Deck Cleaning Blackening Technology[J]. Vacuum Electronics, 2001, 0(5): 45-46
Authors:WANG Jian ping  BIAN Hui  ZHAI Shu yuan  GUO Huang
Abstract:This article discusses the details of the cleaning and blackening working procedures of CPT shadow mask,and how to achieve the of doubling the yield of the production by improving equipment an optimizing production technology.
Keywords:Double deck  Cleaning  Blackening  Incorporate double deck cleaning and blackening bracket
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