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AZ9260光刻胶制作连续非球面微透镜阵列的研究
引用本文:张晓玉,姚汉民,杜春雷,潘丽,邱传凯. AZ9260光刻胶制作连续非球面微透镜阵列的研究[J]. 微细加工技术, 2003, 0(4): 22-26
作者姓名:张晓玉  姚汉民  杜春雷  潘丽  邱传凯
作者单位:中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,成都,610209
基金项目:中科院知识创新方向性基金资助项目(KGCX2-402)
摘    要:为解决研制深浮雕连续非球面微光学元件所面临的浮雕深度和面型控制这两大难点。选取吸收系数小的AZ9260正性光刻胶进行实验研究。提出了采用低温长时间前烘和连续升温后烘技术实现深浮雕结构和非球面面型的控制,并得到口径为300μm、抗蚀剂厚度为35.49μm、石英刻蚀深度为72.36μm双曲线柱面透镜的最佳光刻工艺参数。实验曲线与标准双曲线拟合所得最大误差为2.3637μm,均方根差为0.9779μm。

关 键 词:AZ9260光刻胶 连续非球面微透镜阵列 光刻 深浮雕 面型控制
文章编号:1003-8213(2003)04-0022-05
修稿时间:2003-05-06

Study on Fabrication of Successive Non-sphere Micro-lens Array with AZ9260
ZHANG Xiao-yu,YAO Han-min,DU Chun-lei,PAN li,QIU Chuan-kai. Study on Fabrication of Successive Non-sphere Micro-lens Array with AZ9260[J]. Microfabrication Technology, 2003, 0(4): 22-26
Authors:ZHANG Xiao-yu  YAO Han-min  DU Chun-lei  PAN li  QIU Chuan-kai
Abstract:
Keywords:AZ9260 photoresist  successive non-sphere micro-lens array  deep relief  profile control  
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