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电解分离-电感耦合等离子体发射光谱法测定纯铜中杂质元素
引用本文:郑琳,陈建国,金献忠,林力,王谦. 电解分离-电感耦合等离子体发射光谱法测定纯铜中杂质元素[J]. 冶金分析, 2011, 31(6): 9-13
作者姓名:郑琳  陈建国  金献忠  林力  王谦
作者单位:宁波出入境检验检疫局
基金项目:宁波出入境检验检疫局科研项目
摘    要:以硫硝混酸为电解液,控制电解电流为2 A,建立了电解分离-电感耦合等离子体发射光谱法测定纯铜中19种杂质元素(Mg、Bi、Al、P、Ti、Cr、Mn、Fe、Zn、Co、Ni、As、Se、Zr、Cd、Sn、Sb、Te 和 Pb)的方法。结果显示,在最佳实验条件下,大于99%的铜沉积至阴极,各杂质元素的回收率大于90%。研究了电解后电解液的酸效应和残余铜对测定的影响,结果表明,基体效应影响较小,可通过基体匹配来进一步消除其影响。各杂质元素的检出限在0.02~4 mg/kg之间。运用该方法测定纯铜标准物质GBW02141,各元素测定值与认定值吻合。以高纯铜空白样品做加标回收试验,除Bi外,各元素的加标回收率在90%~100%之间,相对标准偏差(RSD,n=5)在0.2%~7.2%之间。

关 键 词:电解分离  电感耦合等离子体发射光谱法  纯铜  杂质元素  

Determination of impurities in pure copper by electrolytic separation-inductively coupled plasma atomic emission spectrometry
ZHENG Lin,CHEN Jian-guo,JIN Xian-zhong,LIN Li,WANG Qian. Determination of impurities in pure copper by electrolytic separation-inductively coupled plasma atomic emission spectrometry[J]. Metallurgical Analysis, 2011, 31(6): 9-13
Authors:ZHENG Lin  CHEN Jian-guo  JIN Xian-zhong  LIN Li  WANG Qian
Affiliation:Ningbo Entry-Exit Inspection and Quarantine Bureau
Abstract:Through using nitric-sulfuric acid as electrolyte and controlling the electrolytic current at 2 A,nineteen trace impurities(Mg,Bi,Al,P,Ti,Cr,Mn,Fe,Zn,Co,Ni,As,Se,Zr,Cd,Sn,Sb,Te and Pb)in pure copper were determined with a combination of electrochemical deposition separation and inductively coupled plasma atomic emission spectrometry.The results showed that more than 99% of Cu matrix was deposited on cathode with the recoveries of impurities higher than 90 % under the optimized conditions.The effects of acid...
Keywords:electrolytic separation  inductively coupled plasma atomic emission spectrometry  pure copper  impurities  
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