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| 酸增殖剂研究进展 | |
| 引用本文： | 王文君,张改莲,王力元,余尚先.酸增殖剂研究进展[J].感光科学与光化学,2003,21(4):296-302. |
| 作者姓名： | 王文君 张改莲 王力元 余尚先 |
| 作者单位： | 北京师范大学化学系，北京100875 |
| 基金项目： | 2002—2003国家重点863项目(2002AA3Z1330) |
| 摘 要： | 本综述了能有效提高化学增幅抗蚀剂体系感度的各种类型酸增殖剂及其酸增殖机理．对某些常用于光致抗蚀剂中的酸增殖剂的特性作了介绍．并对它们的应用前景、现存问题和改进方向进行了简单讨论和介绍． |
| 关 键 词： | 化学增幅抗蚀剂 酸增殖剂 光致抗蚀剂 感度 |
| 文章编号： | 1000-3231(2003)04-0296-07 |
| 修稿时间： | 2003年3月26日 |
THE PROGRESS OF ACID AMPLIFIER INVESTIGATIONS |
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| Abstract: | |
| Keywords: | chemically amplified photoresist acid amplifier photosensitivity |
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