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低烧基板的流延料浆配制及流延工艺研究
作者姓名:章瑜 孙义传
摘    要:陶瓷材料的成膜技术是制造低温共烧多层陶瓷基板的关键技术之一,本文介绍了低温共烧(800-900℃),低介电常数(ε〈5)多层陶瓷基板中,流延料浆的配制及最佳流延工艺参数的研究。

关 键 词:流延料浆 流延工艺 多芯片组件 低烧 基板
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