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光刻机掩模台微动台建模及控制系统仿真
引用本文:张之万,徐加彦,强盛. 光刻机掩模台微动台建模及控制系统仿真[J]. 自动化技术与应用, 2015, 34(3): 76-80
作者姓名:张之万  徐加彦  强盛
作者单位:哈尔滨工业大学航天学院,黑龙江哈尔滨,150001
摘    要:光刻机在集成电路的大规模生产中占有重要地位。掩模台的高速度高精度控制直接决定了芯片制造的线宽及生产效率。本文介绍了运动控制中常用的三环PID控制方法。此方法易于调试,控制精度高。分析了磁悬浮平台结构的摩擦阻力特性。通过实验测试及系统辨识得到控制系统传递函数模型后,进行仿真分析,确定了控制器参数。在控制系统中加入扰动信号进行仿真,证明系统在扰动存在下,控制可以达到预期纳米级精度。

关 键 词:光刻机掩模台  三环PID控制  传递函数建模

Model Establishing and Control Simulation of the Reticle Stage Micropositioner for Lithography
ZHANG Zhi-wan,XU Jia-yan,QIANG Sheng. Model Establishing and Control Simulation of the Reticle Stage Micropositioner for Lithography[J]. Techniques of Automation and Applications, 2015, 34(3): 76-80
Authors:ZHANG Zhi-wan  XU Jia-yan  QIANG Sheng
Affiliation:ZHANG Zhi-wan;XU Jia-yan;QIANG Sheng;School of Astronautics,Harbin Institute of Technology;
Abstract:
Keywords:lithography reticle stage  three-loop PID control  transfer function determination
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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