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甲基修饰二氧化硅膜的表面自由能与表面结构
引用本文:杨靖,陈杰珞.甲基修饰二氧化硅膜的表面自由能与表面结构[J].材料工程,2008(10).
作者姓名:杨靖  陈杰珞
作者单位:1. 西安交通大学,能源与动力工程学院,西安710049;西安工程大学,环境与化学工程学院,西安,710048
2. 西安交通大学,能源与动力工程学院,西安710049
基金项目:国家自然科学基金,教育部高等学校博士学科点专项科研基金,中国纺织工业协会科技指导性计划,陕西省教育厅资助项目,陕西省自然科学基金
摘    要:以正硅酸乙酯(TEOS),甲基三乙氧基硅烷(MTES)为硅源,硝酸为催化剂,制备了甲基修饰的二氧化硅膜,研究了MTES改性二氧化硅膜的表面润湿性与表面结构的关系以及MTES改性二氧化硅膜的吸水率.用已知表面张力的液体测定接触角,按扩展的Fowkes式计算试样的表面张力γs及其三组分值γsd(色散力)、γsp(偶极矩力)和γsb(氢键力),用热重分析(TG)法测定二氧化硅膜的吸水率.结果表明,随着MTES/TEOS摩尔比增大,二氧化硅膜的表面自由能显著减小,表面润湿性降低,主要是表面张力中氢键力组分的贡献.X射线光电子能谱分析表明,这是由于二氧化硅颗粒表面Si-CH3基团增加而Si-O和O-H基团减小所致.随着MTES/TEOS摩尔比增大,二氧化硅膜的吸水率降低,疏水性二氧化硅膜的MTES/TEOS摩尔比应大于0.8.

关 键 词:二氧化硅膜  表面自由能  润湿性  疏水性

Surface Free Energy and Surface Structure of Methyl-modified Silica Membranes
YANG Jing,CHEN Jie-rong.Surface Free Energy and Surface Structure of Methyl-modified Silica Membranes[J].Journal of Materials Engineering,2008(10).
Authors:YANG Jing  CHEN Jie-rong
Abstract:
Keywords:XPS
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