| 基于包络线法的薄膜光学常数分析 |
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| 引用本文： | 夏志林,薛亦渝,赵利,张幼陵.基于包络线法的薄膜光学常数分析[J].武汉理工大学学报(信息与管理工程版),2003,25(5):73-76. |
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| 作者姓名： | 夏志林 薛亦渝 赵利 张幼陵 |
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| 作者单位： | 武汉理工大学,材料科学与工程学院,湖北,武汉,430070 |
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| 摘 要： | 用电子束反应蒸发法制备了TiO2薄膜,以折射率和消光系数为主要性能指标,通过正交实验法确定了得到较优光学性能的工艺搭配。分析了基片温度、沉积速率和真空度对TiO2薄膜光学性能的影响。并通过所开发的膜系设计软件分析了在最佳工艺条件下制备的TiO2薄膜的透射率,用包络线法计算出了薄膜的折射率、厚度以及消光系数,与实测值有很小的差别,可以证明实测结果的正确性。
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| 关 键 词： | 电子束反应蒸发 TiO2薄膜 光学性能:光学常数 包络线法 |
| 文章编号： | 1007-144X(2003)05-0073-04 |
| 修稿时间： | 2002年10月11 |
Analysis of Thin Film's Optical Parameters Based on the Envelope Method |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | electronic beam evaporation TiO_2 film optical property optical Parameters envelope method |
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