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| 含羟基聚酰亚胺薄膜的制备 | |
| 作者姓名： | 张俊伟 牛彦存 邱凯 杨桃蓉 曾科 杨刚 |
| 作者单位： | 四川大学高分子科学与工程学院;高分子材料工程国家重点实验室; |
| 基金项目： | 国家自然科学基金面上项目(21074077) |
| 摘 要： | 以2,2-双[4-(3,4-二羧基苯氧基)苯基]丙二酐(BPADA)、羟基二胺、含氰基二胺(CNDA)为原料,在160℃且不添加化学脱水剂的情况下,制备了含羟基聚酰亚胺(CN-OH-PI)薄膜,并通过傅里叶变换红外光谱、核磁共振氢谱、差示扫描量热法和热重分析等手段研究了其结构和性能。结果表明:成功合成了CN-OH-PI,将其与以BPADA和CNDA为原料制备的含氰基聚酰亚胺(CN-PI)对比,在300℃条件下热处理12.0 h后,CN-OH-PI的玻璃化转变温度比CN-PI提高约20℃。 |
| 关 键 词： | 聚酰亚胺 薄膜 羟基 热性能 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |