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| 不同偏压下铀表面多弧离子镀TiN薄膜性能研究 | |
| 引用本文： | 刘天伟 鲜晓斌 武胜 董闯. 不同偏压下铀表面多弧离子镀TiN薄膜性能研究[J]. 稀有金属材料与工程, 2006, 35(9): 1437-1440 |
| 作者姓名： | 刘天伟 鲜晓斌 武胜 董闯 |
| 作者单位： | 1. 大连理工大学三束国家重点实验室,辽宁,大连,116024;表面物理与化学国家重点实验室,四川,绵阳,621907 2. 大连理工大学三束国家重点实验室,辽宁,大连,116024 3. 表面物理与化学国家重点实验室,四川,绵阳,621907 |
| 基金项目： | 中国工程物理研究院NSAF基金 |
| 摘 要： | 不同偏压下利用多弧离子镀技术在U基体上制备了TiN薄膜。利用X射线衍射（XRD）分析了薄膜的微观组织结构，用扫描电镜（SEM）观察其表面形貌。结果表明：所得薄膜为单一TiN结构，薄膜表面平整、致密，但局部仍存在大颗粒。摩擦磨损实验测定了薄膜的磨损性能。随偏压的上升，摩擦系数由0．421变为0．401。同时利用X射线光电子能谱分析仪（XPS）对湿热腐蚀20d后的样品进行了分析，并利用电化学极化实验在0．5μg/g CT溶液中测试了基体及薄膜耐蚀性能。结果表明：TiN涂层提高了贫铀的抗腐蚀性能。 |
| 关 键 词： | 多弧离子镀 铀 偏压 |
| 文章编号： | 1002-185X(2006)09-1437-04 |
| 收稿时间： | 2005-08-24 |
| 修稿时间： | 2005-08-24 |
Properties of TiN Films on Uranium Surface by Arc Ion Plating under Different Bias Voltages |
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| Liu Tianwei,Xian Xiaobin,Wu Sheng,Dong Chuang. Properties of TiN Films on Uranium Surface by Arc Ion Plating under Different Bias Voltages[J]. Rare Metal Materials and Engineering, 2006, 35(9): 1437-1440 | |
| Authors: | Liu Tianwei Xian Xiaobin Wu Sheng Dong Chuang |
| Affiliation: | 1. State Key Laboratory of Materials Modification, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China;2. State Key Laboratory of Surface Physics and Chemistry, Mianyang 621900, China |
| Abstract: | |
| Keywords: | TiN |
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