| TiN／TiB2纳米多层膜的共格外延生长 |
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| 引用本文： | 戴嘉维,岳建岭,李戈扬. TiN／TiB2纳米多层膜的共格外延生长[J]. 电子显微学报, 2005, 24(4): 275-275 |
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| 作者姓名： | 戴嘉维 岳建岭 李戈扬 |
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| 作者单位： | 1. 教育部高温材料及高温测试重点实验室
2. 金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030 |
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| 基金项目： | 上海市专利技术再创新项目（No.037725052） |
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| 摘 要： | 两种材料以纳米量级交替优积彤戚的纳米多层薄膜因具有超硬效应而得刮广泛的关注和研究两调制层在小周期时形成共格界面的外延生长结构是纳米多层膜产生硬度异常升高的重要微结构特征。具有超硬效应的氧化物纳米多层膜多形成相同晶体结构类型的共格外延生长结构，然而，近期的研究表明，两种不同晶体结构类型的材料，在特定的晶面形成异结构共格外延生长的纳米多层膜不仅会产生超硬效应，且具有硬度增量更大和高硬度的调制周期范围更宽的明显优势。
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| 关 键 词： | 纳米多层膜 共格界面 外延生长 TiB2 TiN 超硬效应 纳米多层薄膜 调制周期 生长结构 |
Coherent epitaxial growth of TiN/TiB2 nano-multilayers |
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| DAI Jia-wei,YUE Jian-ling,LI Ge-yang. Coherent epitaxial growth of TiN/TiB2 nano-multilayers[J]. Journal of Chinese Electron Microscopy Society, 2005, 24(4): 275-275 |
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| Authors: | DAI Jia-wei YUE Jian-ling LI Ge-yang |
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