|
|||||
|
|
| 氧含量对激光淀积钙钛矿氧化物薄膜晶体结构与物理性能的影响 | |
| 作者姓名： | 崔大复 陈正豪 周岳亮 何萌 |
| 作者单位： | 中国科学院物理研究所光物理实验室和中国科学院凝聚态物理中心,北京,100080 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金重点项目,批准号:59832050. |
| 摘 要： | 钙钛矿型氧化物薄膜由于在未来微电子学和光子学器件等领域的美好应用前景，而备受人们的注目．钙钛矿型氧化物材料众多，且具有丰富的物理特性，如：介电、铁电、铁磁、绝缘、导电、超导以及光学非线性等。然而，这些氧化物材料中氧原子的化学计量配比，对薄膜的晶体结构和物理性能有着至关重要的影响． 本文所涉及的钙钛矿型氧化物薄膜均采用紫外脉冲准分子激光制备，氧化物薄膜中的氧含量可由薄膜淀积过程或薄膜退火过程中所使用的氧气压控制．这里，我们以钛酸钡和钇钡铜氧薄膜为例，着重介绍了氧含量对薄膜的晶体取向、晶格常数、晶相… |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ | |