| Etching Fused Quartz With CHF_3/Ar |
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| 作者姓名： | 周明宝 崔铮 Ｄ．Ｐｒｅｗｅｔｔ |
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| 作者单位： | 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室，英国卢瑟福国家实验室微结构中心 |
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| 摘 要： | 报道了用氟利昂ＣＨＦ３和氩气Ａｒ作工作气体的反应离子刻蚀融石英的技术，研究了气体流速、腔压和射频等离子体功率对刻蚀速度的影响，并分析了刻蚀工艺对样品表面的污染，同时也考察了刻蚀工艺的均匀性和重复性。为了优化刻蚀工艺，采用Ｒｓ１／Ｄｉｓｃｏｖｅｒ软件工具设计优化实验。实验中射频等离子体功率在１２０～１６０Ｗ范围，氩气和氟利昂流速分别在１５～３５ｓｃｍ和２０～５０ｓｃｃｍ范围，腔压在１００～１４０ｍＴｏｒ范围，相应的刻蚀速度为１５～２５ｎｍ／ｍｉｎ。
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| 关 键 词： | 石英，离子腐蚀，多层位相结构，混合气体。 |
Etching Fused Quartz With CHF 3/Ar |
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| Zhou Mingbao.Etching Fused Quartz With CHF_3/Ar[J].Opto-Electronic Engineering,1997(Z1). |
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| Authors: | Zhou Mingbao |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Quartz Ion etching Multilevel phase structures Mixed gases |
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