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磁控溅射台电控系统的改造
引用本文:赖忠良,李莉,张勇,贾易洪,唐代飞.磁控溅射台电控系统的改造[J].半导体光电,2011,32(3):389-391.
作者姓名:赖忠良  李莉  张勇  贾易洪  唐代飞
作者单位:重庆光电技术研究所,重庆,400060;重庆光电技术研究所,重庆,400060;重庆光电技术研究所,重庆,400060;重庆光电技术研究所,重庆,400060;重庆光电技术研究所,重庆,400060
摘    要:针对当前磁控溅射台存在真空自动准备和手动自动切换不完善等缺点,以DV602磁控溅射台为例,对其电控系统进行了改造。设计了以PLC为控制系统核心、以触摸屏为人机接口的电控系统,控制系统的可靠性和稳定性得到提高,且界面友好,操作方便。

关 键 词:磁控溅射  PLC  触摸屏  真空自动准备  RS485

Reformation of the Electrical-controlling System of Magnetron Sputter
LAI Zhongliang,LI Li,ZHANG Yong,JIA Yihong,TANG Daifei.Reformation of the Electrical-controlling System of Magnetron Sputter[J].Semiconductor Optoelectronics,2011,32(3):389-391.
Authors:LAI Zhongliang  LI Li  ZHANG Yong  JIA Yihong  TANG Daifei
Affiliation:(Chongqing Optoelectronics Research Institute,Chongqing 400060,CHN)
Abstract:
Keywords:
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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