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| 掺杂(硼和磷)a-Si_(1-x)C_x:H膜中氢含量的测量 | |
| 引用本文： | 陈光华,张仿清,徐希翔,清水立生.掺杂(硼和磷)a-Si_(1-x)C_x:H膜中氢含量的测量[J].半导体学报,1986,7(5):539-542. |
| 作者姓名： | 陈光华 张仿清 徐希翔 清水立生 |
| 作者单位： | 兰州大学物理系 (陈光华，张仿清，徐希翔)，日本金沢大学工学部(清水立生) |
| 摘 要： | 本工作用IR法研究了a·Si_(1-x)Cx:H(x～0.2)膜中掺杂(B和P)对H键合特性的影响,并对样品含H量作了定量分析. |
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