用自对准方法制作双极晶体管

日本半导体厂家准备采用自对准方法生产双极晶体管。与普通工艺相比,在相同的掩膜精度下,用自对准方法制作的双极晶体管具有较高的工作频率。这种新工艺改进了工作特性、而且消除了其他工艺所要求的三次精确对准步骤。发明这种工艺的是日本电报电话通用公司的Mushashiho电气通讯实验室,它计划与制造厂家合作应用这种工艺制作小讯号晶体管,功率晶体管和集成电路。