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| 非平衡磁控溅射系统的研究 | |
| 引用本文： | 何万强,雷旭,徐新乐. 非平衡磁控溅射系统的研究[J]. 新技术新工艺, 2002, 0(6): 19-20 |
| 作者姓名： | 何万强 雷旭 徐新乐 |
| 作者单位： | 1. 西安工业学院,710032 2. 兵器工业新技术推广所,100089 |
| 摘 要： | 介绍了非平衡磁控溅射系统的原理，试验性能情况，并简要介绍了该系统的一些应用。 |
| 关 键 词： | 非平衡磁控溅射系统 等离子体 磁控溅射镀膜机 |
Research of Unbalanced Magnetron Sputtering System |
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