欧盟实现低成本批量生产大面积NSA

正由欧盟第七研发框架计划(FP7)提供490万欧元资助,总研发投入690万欧元,欧盟6个成员国9家企业联合科技界组成的欧洲PHOTOSENS研发团队,从2011年2月开始,致力于纳米结构传感器阵列(NSA)的低成本大规模工业化制造的关键技术与生产工艺突破,利用最先进的纳米压印光刻(Nanoimprint Lithography)技术,整合卷到卷(R2R)生产制造工艺,实现了低成本大批量制造生产大面积NSA的工业流程设计和设备样机开发,奠定了NSA进一步商业化推广应用的基础。