| 离子束刻蚀机的电源系统 |
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| 引用本文： | 陈元棣,谈治信. 离子束刻蚀机的电源系统[J]. 真空, 2011, 48(2) |
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| 作者姓名： | 陈元棣 谈治信 |
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| 作者单位： | 1. 上海微高精密机械工程有限公司,上海,200136
2. 兰州物理研究所,甘肃,兰州,730000 |
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| 摘 要： | 离子束刻蚀机的性能,除主机外,在很大程度上取决于供电电源系统。为了提高离子束刻蚀机整机工作的稳定性,在以往的配套电源的基础上,研制了一套电源系统,用于离子束刻蚀机中。整机工作稳定度达±0.8%/h,每次连续刻蚀器件8h以上,连续运转3年多,电源系统稳定可靠。是国内离子束刻蚀机电源系统性能较好的供电电源系统。
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| 关 键 词： | 离子束刻蚀 离子源 真空系统 稳流电源 稳定度 |
Power supply system of ion beam etching machine |
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| CHEN Yuan-di,TAN Zhi-xin. Power supply system of ion beam etching machine[J]. Vacuum(China), 2011, 48(2) |
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| Authors: | CHEN Yuan-di TAN Zhi-xin |
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| Affiliation: | CHEN Yuan-di1,TAN Zhi-xin2(1.Shanghai VIGAO Precise Machine Engineering Ltd.,Shanghai 200136,China,2.Lanzhou Institute of Physics,Lanzhou 730000,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ion beam etching ion source vacuum system stabilized power supply stability |
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