| 反应温度对甲基氯硅烷合成的影响 |
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| 引用本文： | 韩琭,罗务习,梁卫华,王光润,王金福. 反应温度对甲基氯硅烷合成的影响[J]. 化学反应工程与工艺, 2002, 18(2): 187-192 |
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| 作者姓名： | 韩琭 罗务习 梁卫华 王光润 王金福 |
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| 作者单位： | 清华大学化学工程系,北京,100084 |
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| 摘 要： | 实验研究了直接法流化床合成甲基氯硅烷过程中反应温度对反应活性和二甲基二氯硅烷（DDS）选择性的影响。研究结果表明，随着反应温度升高，催化反应的活性有所升高，但是DDS的选择性逐渐降低。因此，该气－固－固催化反应有一个适宜的反应温度范围（约280－300℃）。在较高温度下触体会失去活性，此时反应活性和DDS选择性都会明显变差，再降低反应温度后失活的触体也不会恢复活性，温度波动造成的这种影响是不可逆的。
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| 关 键 词： | 合成 甲基氯硅烷 反应温度 失活 有机硅材料 催化剂 |
| 文章编号： | 1001-7631(2002)02-0187-06 |
| 修稿时间： | 2001-07-17 |
Effect of Reaction Temperature on Synthesis of Methylchlorosilane |
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| HAN Lu,LUO Wu xi,LIANG Wei hua,WANG Guang run,WANG Jin fu. Effect of Reaction Temperature on Synthesis of Methylchlorosilane[J]. Chemical Reaction Engineering and Technology, 2002, 18(2): 187-192 |
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| Authors: | HAN Lu LUO Wu xi LIANG Wei hua WANG Guang run WANG Jin fu |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | methylchlorosilane reaction temperature deactiation |
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