| 离子注入C60薄膜的电导率变化 |
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| 引用本文： | 张建国 崔云龙. 离子注入C60薄膜的电导率变化[J]. 核技术, 1997, 20(6): 333-337 |
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| 作者姓名： | 张建国 崔云龙 |
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| 作者单位： | 中国科学院上海原子核研究所 |
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| 摘 要： | 沉积在云母片上的纯Ｃ６０薄膜受２０ｋｅＶ的Ｌｉ＋和Ｎ＋２离子轰击，剂量在０．５×１０１６／ｃｍ２～５．０×１０１６／ｃｍ２之间改变，测量了离子注入后Ｃ６０薄膜方块电阻随温度的变化，进而推导出Ｃ６０薄膜电导率随温度和注入离子剂量的变化；分析了非原位测量中氧元素对电导率变化的影响以及能量较高的注入离子对Ｃ６０薄膜的辐照损伤效应。研究结果表明，Ｌｉ＋注入对Ｃ６０薄膜电导率的影响明显高于Ｎ＋２注入的影响，并给出了不同离子注入条件下Ｃ６０薄膜电导率随温度变化的函数关系式。
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| 关 键 词： | 薄膜 电导率 离子注入 碳60 |
Electric conductivity change of ion-implanted C 60 films |
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| Zhang Jianguo Cui Yunlong Gong Jinlong Lin Senhao Rong Tingwen. Electric conductivity change of ion-implanted C 60 films[J]. Nuclear Techniques, 1997, 20(6): 333-337 |
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| Authors: | Zhang Jianguo Cui Yunlong Gong Jinlong Lin Senhao Rong Tingwen |
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| Keywords: | C 60 film Electric conductivity Ion-implantation |
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